EUV光刻
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天價(jià)EUV光刻，何去何從？
EUV光刻替代技術(shù)的不斷進(jìn)步正推動(dòng)半導(dǎo)體領(lǐng)域的快速進(jìn)步。受到成本與效率的雙重考量，以及近期半導(dǎo)體供應(yīng)鏈安全問題的迫切壓力，各國(guó)有十足動(dòng)力開發(fā)EUV光刻的替代方案。
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