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納米壓印光刻，能讓國(guó)產(chǎn)繞過(guò)ASML嗎？
納米壓印光刻能繞開(kāi)光刻機(jī)嗎，納米壓印光刻對(duì)比光刻機(jī)有哪些優(yōu)劣勢(shì)，納米壓印光刻是國(guó)產(chǎn)的另一種出路嗎。顛覆EUV光刻，不讓ASML獨(dú)美
光刻是大批量半導(dǎo)體制造的核心工藝。一旦突破了光刻工具的限制，您仍然可以通過(guò)轉(zhuǎn)向各種多重圖案化方案來(lái)繼續(xù)縮放單個(gè)特征尺寸。腹背受「敵」的FinFET
GAA的戰(zhàn)役即將硝煙四起，F(xiàn)D-SOI生態(tài)需要一次真正的變革，F(xiàn)inFET在腹背受敵中，思考未來(lái)的路...顛覆傳統(tǒng)芯片制造的時(shí)刻到了
DSA能夠提供比半導(dǎo)體行業(yè)目前所要求的更高的分辨率，而且特征尺寸現(xiàn)在正接近DSA特別有效的水平。如果這些趨勢(shì)持續(xù)下去，這項(xiàng)技術(shù)有望在本世紀(jì)末被廣泛采用。浸潤(rùn)式光刻之父林本堅(jiān)欲再造江湖？
中國(guó)臺(tái)灣清華大學(xué)與臺(tái)積電、力積電等10家頂尖半導(dǎo)體企業(yè)合作的半導(dǎo)體研究學(xué)院，將于今年8月成立。
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